设备名称：超大幅面光刻机

生产厂家：中国科学院光电技术研究所

型  号：大面积精细胶膜图形结构成型机

主要规格及技术指标

曝光面积：600mm×600mm

掩膜尺寸：650mm×650mm

分辨力：3μm

对准精度：±1.5μm

汞灯功率：2500W

曝光面光强：>10mW/cm2

光源均匀性：±15%

主要功能及特色

        大面积精细胶模图形结构成型机是从事微细加工的支撑平台，采用高强度紫外光源及光学系统实现大面积高均匀照明，通过CCD对准系统及高精度多维工件台实现掩模板与样片的对准曝光，从而实现微结构的光刻加工。